11月17日消息，本周四，韓國科技部正式表示，本國科學(xué)家已經(jīng)成功研制出了全球最薄的金屬線，而這一成功也被視為足以震驚科技領(lǐng)域的重大突破。 　　english.yna.co.kr報(bào)道,此次研制出的金屬線寬度僅僅為2納米，由韓國首都首爾的Yonsei大學(xué)原子線研發(fā)中心所開發(fā)。 　　分析家指出，隨著這種超薄金屬線技術(shù)的面世，未來半導(dǎo)體產(chǎn)品將擁有更大的容量和更快的速度。據(jù)此次研究小組的12位科學(xué)家透露，通過此項(xiàng)技術(shù)，未來內(nèi)存芯片的尺寸將會極大程度上被降低，而半導(dǎo)體篆刻工藝也將進(jìn)入全新的2納米時(shí)代。 　　目前為止，韓國三星旗下最為先進(jìn)的16G內(nèi)存仍然使用著50納米設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)。而業(yè)界目前所制定的目標(biāo)，也只不過是成功過渡到25納米技術(shù)而已。此項(xiàng)研究始于2003年，由韓國科技部所贊助，總耗費(fèi)資金達(dá)到了214萬美元。